Vol.2, N°3 (2006)

Une méthode simple et précise pour la détermination de l’épaisseur de couches ultraminces à partir des mesures de réflectométrie des rayons X

Résumé

Dans ce papier, nous proposons une méthode simple et précise pour déterminer l’épaisseur de couches ultraminces à partir des mesures de réflexion des rayons X. Pour des épaisseurs de l’ordre de quelques nanomètres à quelques centaines de nanomètres, le spectre de réflexion de rayons X présente des franges d’interférences. Les positions angulaires de ces franges sont liées à l’épaisseur e et à l’angle critique alpha (de réflexion totale) de la couche par l’intermédiaire de l’ordre d’interférence p. Nous proposons une méthode simple qui permet de déduire les valeurs correctes de p et par suite une valeur précise de e.

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